一种机器人砂带磨抛三维摆线轨迹规划及材料去除均匀性调控方法
申请号:CN202410784400
申请日期:2024-06-18
公开号:CN118635974B
公开日期:2025-09-26
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种机器人砂带磨抛三维摆线轨迹规划及材料去除均匀性调控方法,包括以下步骤:获取待抛光工件的三维模型,选取抛光区域,并设置相关的抛光工艺参数;计算抛光区域,将抛光曲面从三维映射转换到二维参数域中,生成二维参数网格模型;从二维参数网格模型中,提取出抛光曲面的中轴线,并沿中轴线生成平面变半径摆线轨迹;将平面变半径摆线轨迹,逆映射回待抛光工件三维模型中,得到初始步距的三维变半径自适应摆线轨迹;建立接触模型,对接触模型进行模拟磨抛过程,计算磨抛材料去除量;定量评估磨抛材料去除在整张曲面分布的均匀性,迭代优化三维变半径自适应摆线轨迹的步距值;后置处理获得材料去除均匀的三维摆线抛光轨迹。
技术关键词
变半径摆线轨迹
调控方法
砂带
机器人
Delaunay三角剖分
数学模型
三维模型
参数
规划
曲面
抛光工艺
三角网格模型
工件
数值模拟技术
映射算法
周期