基于CMC与DPSO-KM算法的大型零部件测量扫描位姿优化方法
申请号:CN202511108429
申请日期:2025-08-08
公开号:CN121025953A
公开日期:2025-11-28
类型:发明专利
摘要
本发明涉及基于CMC与DPSO‑KM算法的大型零部件测量扫描位姿优化方法,建立进行激光扫描约束、跟踪约束和基本约束的组合测量约束CMC所需的坐标系;基于CMC获取局部可访问方向LAD:提取采样点方位,建立扇形面模型,建立CMC,获取包括满足测量约束下的所有扫描仪激光源的位置向量和方向向量的局部可访问方向LAD;对局部可访问方向LAD进行预处理获取LAD的中心位置向量Lc和中心方向向量Dc,用以代表该采样点处的LAD;基于所有LAD的中心方向向量Dc通过DPSO‑KM算法计算得到被测零部件的全局可访问方向GAD。通过CMC模型确保了更高精度的扫描路径规划,结合DPSO‑KM算法显著降低GAD的聚类数量,优化计算效率减少计算复杂度,提升计算速度并保持较高的精度。
技术关键词
扫描仪坐标系
位姿优化方法
KM算法
反射镜
激光扫描仪
采样点
激光跟踪仪
矩阵
扫描路径规划
粒子
标签
聚类
代表
定义
条纹
关系