远程等离子体鞘层特性调控与刻蚀均匀性优化方法

本发明涉及等离子体刻蚀技术领域，公开了远程等离子体鞘层特性调控与刻蚀均匀性优化方法。该方法步骤如下：采集历史稳定参数建立基准参数库，采集实时监测集并根据数据量确定调控优化周期；采集该周期内所有等离子体鞘层参数并获取平均值作为调控优化阈值，结合基准参数库分析判断是否存在疑似非均匀刻蚀并标记；当存在疑似非均匀刻蚀时，获取其鞘层厚度及分布特征以判定是否为非均匀刻蚀，若为非均匀刻蚀，根据频次确定初始调控系数；提取非均匀刻蚀并识别鞘层电势、离子能量与边界轮廓，基于分类算法分类以判断是否存在波动鞘层；若存在，根据波动鞘层特征确定修正系数修正初始调控系数，并调整下一调控优化周期。该方法可动态适配鞘层变化。