两步法各向异性高斯喷溅方法及装置

AITNT-国内领先的一站式人工智能新闻资讯网站
# 热门搜索 #
两步法各向异性高斯喷溅方法及装置
申请号:CN202510545122
申请日期:2025-04-28
公开号:CN120495496A
公开日期:2025-08-15
类型:发明专利
摘要
本申请涉及辐射成像技术领域,特别涉及一种两步法各向异性高斯喷溅方法及装置,其中,方法包括:通过投影数据初始化,得到目标扫描物体的高斯核表示,并以传统重建方法的重建结果作为监督信号,初步优化高斯核参数;利用可微光栅化得到高斯核表示的投影图,以扫描到的真实投影图作为监督信号,进一步优化高斯核参数,并引入各向异性高斯正则化,规范高斯核的表示行为,若被扫描方式不满足标准相机模型,则引入虚拟探测平面,并构建其与真实投影数据之间的映射关系以满足相机模型;最后将高斯表示体素化,得到计算机层析重建结果。本申请可以有效提升CL扫描模式病态数据条件下的体重建效果,抑制重建图像的层间伪影与噪声,实用性极高。
技术关键词
相机模型 物体 探测器 关系 辐射成像技术 参数 数据 喷溅装置 计算机程序产品 处理器 分辨率 可读存储介质 存储器 坐标 光源 电子设备 模块