一种真空磁控镀膜装置及其使用方法

本发明公开一种真空磁控镀膜装置及其使用方法，属于芯片制造技术领域，包括基座，基座的顶面固接有驱动机构，驱动机构包括固接在基座顶面的水平旋转驱动部、翻转驱动部和垂直升降驱动部，水平旋转驱动部包括固接在基座顶面的旋转电机，旋转电机传动连接有旋转轴，旋转轴的底部穿过基座并固接有旋转平台，翻转驱动部包括固接在基座顶面的翻转电机，翻转电机传动连接有翻转轴，翻转轴位于旋转轴内，翻转轴的底部伸出至旋转轴的下方并传动连接有翻转平台，翻转平台与旋转平台传动连接。本发明能够提高基片的镀膜效率。