用于光刻对准测量的空域回归网络及其使用方法
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用于光刻对准测量的空域回归网络及其使用方法
申请号:
CN202411973760
申请日期:
2024-12-30
公开号:
CN119761424A
公开日期:
2025-04-04
类型:
发明专利
摘要
本发明属于半导体加工技术领域,公开了用于光刻对准测量的空域回归网络及其使用方法,空域回归网络,包括多个3x3的卷积层,每个卷积层后都接有BN层和ReLU激活函数,每两个卷积操作后使用一个最大池化层;每两个卷积操作之间设有一个残差块结构;最后一个卷积层后设有全连接层。本发明的空域回归网络可以自动拟合多种误差源的误差模型并将其消除,减低测量误差;可以处理各类复杂对准信号和/或图形。
技术关键词
网络
光刻
误差模型
对准标记
位移台
测量误差
掩膜
滤波器
半导体
图像
条纹
硅片
相机
信号
成像
环形
数据