一种微壳体谐振陀螺阻尼均匀性修调方法与系统

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一种微壳体谐振陀螺阻尼均匀性修调方法与系统
申请号:CN202411862009
申请日期:2024-12-17
公开号:CN119309602B
公开日期:2025-03-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种微壳体谐振陀螺阻尼均匀性修调方法与系统,该方法包括:对金属化后的微壳体谐振子进行装配和振型进动,并每隔X°进行振动的自由衰减;对振型进动过程中自由衰减的数据进行采样,并拟合得到微壳体谐振子阻尼周向不均匀性曲线;将Q值最高的轴定义为低阻尼轴,将Q值最低的轴定义为高阻尼轴,并将低阻尼轴与高阻尼轴当前Q值的最大差值定义为ΔQ;在低阻尼轴上溅射沉积薄膜进行阻尼不均匀修调,直至是否满足阻尼不均匀性要求。本发明应用于微机电技术领域,通过在微壳体谐振子的外表面沉积薄膜的方法实现阻尼不均匀性的修调,能在不引起表面污染的前提下修调所有阻尼因素带来的阻尼不均匀。
技术关键词
谐振子 溅射沉积薄膜 阻尼 谐振陀螺 壳体 表面沉积薄膜 定义 掩膜 金属化 三维建模软件 曲线 陀螺仪 机电技术 光敏树脂 数据 三维模型 孔对准 工业 频率