一种应用在面板生产领域的掩膜构建方法

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一种应用在面板生产领域的掩膜构建方法
申请号:CN202411621509
申请日期:2024-11-14
公开号:CN119439603A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种应用在面板生产领域的掩膜构建方法,属于显示面板生产技术领域,包括:利用经验补偿脚本将设计版图补偿成旧掩膜版图;利用模型查找所述旧掩膜版图中补偿不准的位置,得到仿真轮廓与目标边界的差异;对找到的位置收集数据验证;若验证不一致,则利用实际生产数据对模型进行优化,直到所有补偿不到位的位置的仿真数据与实际生产数据完全一致;利用优化好的模型与修正工具对所述设计版图进行修正;根据修正结果更新补偿不准位置的补偿值;形成新掩膜版图;对所述新掩膜版图进行可制造性检查,若检查通过则进行掩膜生产。本方案可以对面板设计版图进行掩膜补偿质量检查,找到补偿不良的位置,降低测量工作量。
技术关键词
掩膜 版图 OPC模型 补偿值 仿真数据 面板 修正工具 数据验证 轮廓 可读存储介质 脚本 处理器通信 存储器 计算机 电子设备 工作量 指令