摘要
本发明涉及半导体材料的技术领域,公开了一种LED芯片及其制备方法,所述制备方法包括:(1)提供一衬底,在衬底上生长外延层,随后在外延层的表面沉积电流阻挡层;(2)在表面涂覆光刻胶,通过黄光工艺将光刻胶图形化,随后依次沉积光反射材料和第一金属材料,并去胶清洗,形成预设形状的光反射层和预设形状的第一金属电极层;(3)在表面沉积ITO材料,随后通过黄光、刻蚀,形成预设形状的ITO电流扩展层;(4)在表面涂覆光刻胶,通过黄光工艺将光刻胶图形化,随后沉积第二金属材料,并做去胶处理,形成预设形状的第二金属电极层;(5)在表面沉积钝化保护层。通过本发明中的制备方法,可以提高LED芯片的发光亮度并解决LED芯片易脱落、制程良率低等问题。