一种薄膜膜厚分布快速测量方法、系统及计算机可读存储介质
申请号:CN202410899250
申请日期:2024-07-05
公开号:CN118960582A
公开日期:2024-11-15
类型:发明专利
摘要
本发明属于薄膜厚度光学测量技术领域,具体公开了一种薄膜膜厚分布快速测量方法、系统及计算机可读存储介质。包括S101,采集薄膜生长前后待测区域的干涉图;S102,基于恢复算法确定待测区域薄膜生长后相对于生长前的归一化光强图和相位延迟图;S103,基于透射式薄膜传输矩阵法建立测量模型;S104,通过建立的测量模型确定待测区域薄膜生长后和生长前测量数据之间的关系;测量数据包括待测区域薄膜生长后相对于生长前的透射率之比和待测区域薄膜生长后相对于生长前的相位延迟;S105,基于测量数据和建立的测量模型之间的关系确定待测区域的薄膜膜厚分布。本发明能够解决现有技术关于多重反射和吸收材料消光系数的限制问题。
技术关键词
测量方法
恢复算法
光路系统
图像采集单元
反射镜
可读存储介质
矩阵
薄膜特征
关系
多层膜结构
光强度
成像
计算机
电场
数据
单色光源
夹持设备
孔径光阑