基于遗传算法的螺旋磁流变抛光特定中频段误差调控方法

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基于遗传算法的螺旋磁流变抛光特定中频段误差调控方法
申请号:CN202410798045
申请日期:2024-06-20
公开号:CN118364731B
公开日期:2024-08-16
类型:发明专利
摘要
本申请属于光学抛光技术领域,涉及基于遗传算法的螺旋磁流变抛光特定中频段误差调控方法,包括:根据螺旋磁流变抛光方法,以随机角度和随机行距为设计变量,建立随机变量函数,并形成初始种群;获取加工工件的面形误差和材料去除量的分布,计算螺旋去除函数在每个加工点的驻留时间;根据驻留时间,提取特定中频段的表面均方根误差,以计算个体的适应度函数;遍历所有个体,当满足预设条件时,根据适应度函数,输出最优个体,得到最优角度和最优行距;否则,根据遗传算法对初始种群进行更新,进行循环迭代,直至满足预设条件。采用本申请能够实现螺旋磁流变抛光特定中频段误差的调控。
技术关键词
遗传算法 调控方法 磁流变抛光方法 加工点 误差 频段 螺旋 低频面形 工件 光学抛光技术 变量 抛光工具 加速度 机床 动态
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